WEP082

ポスターセッション①　8月6日 61B 12:40-14:40

電子サイクロトロン共鳴イオン源における低Zイオンの選択的加熱による多価イオン生成高効率時のプラズマパラメータ測定
Plasma parameter measurement during efficiently producing multicharged ions by selectively heating low-Z ions on Electron Cyclotron Resonance Ion Source in mixing low-Z gases

○Tokuno Shinji¹, 藤村優志¹, 井手章敦¹, 井上大地¹, 浅地豊久², 北川敦志³, 村松正幸³, 加藤裕氏¹（¹大阪大学, ²滋賀県立大学, ³量子科学技術研究開発機構）
○Shinji Tokuno¹, Yushi Fujimura¹, Akinobu Ide¹, Daichi Inoue¹, Toyohisa Asaji², Atsushi Kitagawa³, Masayuki Muramatsu³, Yushi Kato¹（¹The University of Osaka, ²The University of Shiga Prefecture, ³QST）

電子サイクロトロン共鳴イオン源(ECRIS)は様々な領域に応用されており,例として加速器,イオン注入などがあげられる.私たちは2.45GHｚECRISで多価イオンビームの効率的生成に関する研究を行なっている．低Zガスミキシングは経験的に多価イオン生成を効率化する方法として知られている.ガスミキシングによってもたらされる効果の一つとして考えられるのがイオンクーリング効果である.私たちはそのイオンクーリング効果に着目し,低Zガスをイオンサイクロトロン共鳴(ICR)でイオンを選択的に加熱することにより,イオンクーリング効果を増幅させることを試みている.今回の実験ではXeを動作ガスとするプラズマに低ZガスとしてHeやArガスをミキシングし,そこにHe⁺もしくはAr⁺加熱用の低周波数RF電磁波(400kHz or 40kHz)をICRアンテナによって導入すると,多価イオンの収量が増加することが引き出されたイオンビームの質量価数分布(CSD)測定によって確認できた.He⁺を加熱した場合のほうがより顕著に収量が増加した.本研究ではミキシングプラズマに低周波数RF電磁波を導入し,ラングミュアプローブ法で測定を行なうことにより,イオン源内にてどのようなプラズマパラメータの変化が起きているか計測した.Xe/He, Xe/Arどちらも電子温度と電子密度の上昇が見られ,Xe/Heの場合,より顕著に表れ,イオンビーム電流の増大結果と良い対応関係にある.本報告ではこれらの実験の詳細を述べるとともにイオンセンシティブプローブを用いたイオン源内でのイオン温度測定をおこなう予定である.

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