WEP020
ポスターセッション① 8月6日 7-1F-B 12:40-14:40
高速インターロック機能を備えたRI製造ライン用真空制御装置の開発
Development of vacuum control equipment for RI production line with high-speed interlock function
○渡邉 環1, 羽場 宏光1, 清水 弘通1, 重河 優大1, 金山 洋介1, 南部 明弘1, 佐藤 望1, 臼田 祥子1, 黒須 弘典2（1理化学研究所, 2株式会社トリオ二クス）
○Tamaki Watanabe1, Hiromitsu Haba1, Hiromichi Shimizu1, Yudai Shigekawa1, Yousuke Kanayama1, Akihiro Nambu1, Nozomi Sato1, Sachiko Usuda1, Hironori Kurosu2（1RIKEN, 2TRIONIX Inc.）
サイクロトロンやリニアックによって加速された重イオンビームを用いた放射性同位体(RI)製造用ビームラインに於いては、真空制御は極めて重要である。特に、大強度ビーム照射によってRI製造装置の真空窓が損傷して真空が悪化した場合に、実験装置と加速器を保護するため、ビームラインのゲートバルブを瞬時に閉じ、ビームと真空ポンプを緊急停止するインターロックが必須となる。また、ビームラインの真空を引く際には、真空度や各真空ポンプの状態監視と状態遷移のシーケンス制御が必要である。これらの問題を解決するために、ビームラインの真空制御装置VCS (Vacuum Control System )の設計と開発を行い、それを実用化した。真空度は、コールドカソードゲージが常時監視し、真空の悪化を検出すると、ビームラインのFCV (Fast Closing Valve)を約14 ms以内に閉じる。また同時に、VCSを通してBIS (Beam Interlock System)信号が加速器側に送信され、ビームを緊急停止する。VCSはFPGA (Field Programmable Gate Array) を搭載したシステムで構築されており、従来のシステムの100倍以上の速さでBIS信号を送信することが可能となった。今回の学会では、測定システムと測定結果について報告する。